Karakterisasi XRD pada penumbuhan CNT diatas substrat gelas corning 7059 menggunakan nanokatalis ag dengan metife HWC in plasma-VHF-PECVD.
Kurniati abidin, Toto Winata, Fatimah a.noor, ajeng eliyana, Jasruddin D.Malago
1. Jurusan Fisika ITB
2. Jurusan Fisika UNM
Abstract
Telah dilakukan penumbuhan CNT dengan metode HWC in plasma-VHF-PECVD pada temperatur 275 C dan tekanan 300 mTorr, dengan optimasi daya 20, 10 dan 8 watt. Serta waktu deposisi 50, 25 dan 14 detik. Dengan menggunakan nano-katalis Ag yang ditumbuhkan di atas subatrat gelas Corning 7059. Melalui karakterisasi SEM dihasilkan diameter dan panjang CNT yang terbentuk adalah 125 nm dan 1,650 - 2,989 mikrometer untuk daya 10 dan 8 watt, sedangkan pada daya rf 20 watt belum nampak CNT yang berbentuk tube. Selanjutnya akan dilakukan karakterisasi XRD untuk sampel daya rf 8 watt.
Keywords: CNT, HWC in plasma-VHF- PECVD, evaporasi
Topic: Physics
Link: https://ifory.id/abstract-plain/DngdRwmPj6zB