Indonesia Conference Directory


<< Back

PENGARUH DADAH Ti TERHADAP SIFAT OPTIK LAPISAN TIPIS In2-2x Ti2xO3 YANG DITUMBUHKAN DENGAN TEKNIK METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (MOCVD)
Horasdia Saragih

Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam
Universitas Advent Indonesia
Jl. Kol. Masturi No. 288 Parongpong, Bandung Barat, Indonesia


Abstract

Penumbuhan lapisan tipis In2-2xTi2xO3 di atas substrat gelas telah dilakukan dengan teknik metal organic chemical vapor deposition (MCVD). Prekursor yang digunakan adalah In(TMHD)3, Titanium(IV)isopropoxide (TTIP) dan gas O2. Parameter optimum penumbuhan dan lapisan tipis In2-2xTi2xO3 dengan berbagai ketebalan dan konsentrasi Ti, diperoleh. Sifat optik lapisan dan morfologi butir penyusun lapisan, dianalisis. Seluruh lapisan dengan konsentrasi Ti sampai 5% dan dengan ketebalan sampai 531 nm, transparan pada rentang panjang gelombang sinar tampak dengan transmitans ≥ 80%. Elemen dadah Ti memberi pengaruh terhadap tingkat transmitans, morfologi permukaan dan lebar celah pita optik lapisan. Lapisan tipis In2-2xTi2xO3 dengan konsentrasi Ti yang lebih tinggi menghasilkan transmitans yang lebih rendah, morfologi permukaan yang lebih kasar dan celah pita optik yang lebih besar.

Keywords: Dadah Ti, sifat optik, lapisan tipis, In2-2x Ti2xO3, MOCVD

Topic: Fisika Material Elektronik

Link: https://ifory.id/abstract/2JaAGuhgNKLP

Conference: Seminar Kontribusi Fisika (SKF 2019)

Plain Format | Corresponding Author (Horasdia Saragih)

PDF (530 kB)

Featured Events

AASEC 2020

Embed Logo

If your conference is listed in our system, please put our logo somewhere in your website. Simply copy-paste the HTML code below to your website (ask your web admin):

<a target="_blank" href="https://ifory.id"><img src="https://ifory.id/ifory.png" title="Ifory - Indonesia Conference Directory" width="150" height="" border="0"></a>

Site Stats